Beschichtungstechnologie: Ionenstrahl Sputtern (IBS)

Beim Ionenstrahlsputtern bzw. Ion Beam Sputtering (IBS) wird eine separate Ionenquelle eingesetzt. Es liegt eine komplette Trennung der Ionen-Erzeugung vom Target und Substrat vor, so dass die thermische Belastung der Substrate während der Beschichtung kleiner ist als bei der konventionellen Bedampfung.

Vorteile der Beschichtung mittels IBS:

  • geringe Verluste durch Streulicht
  • hochreflektierende Beschichtungen
  • hohe thermische und klimatische Stabilität der optischen Paramenter
  • hohe Laserzerstörschwellen
  • hohe mechanische Stabilität

 

 

 

Das Ionenstrahlsputtern bietet die Herstellung von sehr dichten, ebenen und defektfreien Schichten für Anwendungen im High-End-Bereich:

  • Antireflexbeschichtungen mit Restreflexion kleiner 0,2% im Breitband bis hin zu kleiner 0,05% für einzelne Wellenlängen
  • Kurzpass-, Langpass-, Bandpass-, Multiband- oder Notchfilter mit extrem steilen Kanten uns sehr guter Blockung bis OS5
  • Hocheffiziente Strahlteiler mit Aufspaltung 50/50 ± 1